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Melec高能脉冲源
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高能脉冲源

Melec公司成立于1998年,公司专注于开发和生产电源脉冲发生器,凭借在电力电子和薄膜技术领域接近20年的经验,Melec产品在研发和工业领域都得到了广泛的应用。

Melec的电源脉冲发生器可实现多种用途,凭借现有的直流电源配上Melec的电源脉冲发生器即可实现单极脉冲、双极脉冲、偏压以及HiPIMS高能脉冲电源等功能。Melec的电源脉冲发生器工作稳定且设计灵活,目前已经在欧洲、美国、中国以及日本等地申请了专利,并且公司已经通过了ISO9001认证。

M01.png  M02.png

NiCr靶使用直流及HiPIMS晶体结构对比

HiPIMS高能脉冲为例,相较于直流电源,离化率更高,沉积的薄膜附着力更好,从上图可以看出,直流电源沉积出的为柱状结构,而HiPIMS电源沉积出的为玻璃状结构,膜层更致密。

 

Melec的电源脉冲发生器主要分为研发领域使用的SIPP2000系列以及工业领域使用的SPIK系列,其中SIPP2000系列分为单极和双极两种,SPIK系列分为SPIK1000ASPIK2000ASPIK3000A三种。SPIK系列涵盖的功率范围可从0.5KW30KW

M03.png  M04.png

Melec最新推出的SPIK3000A基本性能参数如下:

 

项目

规格参数

直流电源功率输入

10KW,20KW,30KW

直流电源电压输入

最大1000V

直流电源电流输入

最大50A

脉冲输出电压

最大1000V

脉冲输出电流

最大1000A(峰值)

认证

CE认证

下方为Melec电源脉冲发生器的简单工作原理:

M05.png

Melec电源脉冲发生器,除了单独产生脉冲之外,也可进行叠加使用,根据不同的应用以及不同的基材等,进行各种不同的叠加。

 

对于单靶或者单弧源来说,可以进行直流和单极HiPIMS高能脉冲、直流和单极脉冲以及单极脉冲和单极HiPIMS高能脉冲叠加,实现共溅射的功能。

M06.png M07.png

                  直流和单极HiPIMS高能脉冲叠加

 

对于双靶来说,可以进行更多种的叠加,比如双极脉冲和双极HiPIMS高能脉冲、单极脉冲和双极HiPIMS高能脉冲(Bias偏压同步)、双极HiPIMS高能脉冲/双极脉冲和单极脉冲(Bias偏压同步)、单极HiPIMS高能脉冲/双极脉冲和单极脉冲(Bias偏压同步)、双极HiPIMS高能脉冲和RF(Bias偏压同步)以及单极HiPIMS高能脉冲和RF(Bias偏压同步)叠加等。

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                  双极脉冲和双极Hipims高能脉冲叠加

 

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