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英国Gencoa离子源
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IMC圆形离子源

          IMC圆形离子源.png

可用于惰性及反应气氛环境下,工作电流可达90mA,工作电压可达3000V。应用领域包括离子辅助、基板预清洗、图案化、刻蚀、涂层剥离、涂布、PECVDPEALD以及离子束溅射等。

ü  可替代RF刻蚀类离子源                                      

ü  自中和离子束 ,没有电荷积累

ü  较宽的工作压力范围(E-4E-3mbar 

ü  牢固的结构设计,且可调整角度

ü  稳定的离子束电流且离子能量可调

ü  通过IM300电源可自动反馈控制

ü  可工作于多种工作气体 

ü  石墨阳极,没有污染 

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